SISTEMAS PARA DEPOSICIÓN DE PELÍCULA DELGADA

Los sistemas ALD ofrecen precisión extrema y uniformidad en las capas

Proveedor principal de ALD para instituciones académicas e industriales a nivel mundial.

Los sistemas de deposición de película delgada de Veeco CNT, están diseñados para depositar película de recubrimiento libre de orificios y defectos. Estas películas se depositan de manera uniforme, incluso en el interior de los poros, cavidades o trincheras previamente formados.

 

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Veeco / CNT, proveedor a nivel mundial de sistemas de deposición de película atómica (ALD) para centros de investigación y sector industrial. Ha manufacturado cientos de sistemas ALD tipo Savannah, cuyo resultado respalda más de mil publicaciones en el área de investigación.

El modelo Savannah de ALD es asequible y confiable. Fiji le ofrece amplia capacidad de experimentación como deposición por plasma y los sistemas Phoenix le respaldan en capacidad de producción.

Aplicaciones

1

Recubrimientos ópticos

7

Electrónica flexible/orgánica

2

Superconductors

8

Materiales 2D/Calcogenuros

3

Bio-sensoresjlk

9

Revestimientos hidrófobos/antiestáticos

4

Nano-catalizadores

10

LED/iluminación cuántica

5

Foto-multiplicadores

11

Película delgada, orgánica y silicio solar

6

Textiles inteligentes

12

Nanofabricación con estructuras

Selecciona el Sistema Adecuado

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Savannah

Sistema ALD preferido por tecnólogos, investigadores y universidades a nivel munidal. Ideal para su proceso de deposición de película delgada con un alto porcentaje de ahorro de energía, lo cual reduce su costo de operación pues cuenta con una plataforma económica y robusta.

  • Deposición Térmica.
  • Deposición Plasma.
  • Deposición Térmica lotes Pequeños.
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Fiji G2

Sistema ALD modular de alto vacío, adaptable a una amplia gama de procesos de deposición mediante el uso de una arquitectura amigable y amplia configuración de precursores y gases  de plasma; dando como resultado un excelente sistema ALD mejorado.

  • Deposición Térmica.
  • Deposición de Plasma.
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Phoenix

Sistema ALD diseñado para un alto rendimiento en procesos de fabricación, altamente confiable para tecnólogos, investigadores y universidades para deposición de película repetible con alta precisión sobre sustratos.

  • Deposición Térmica.
  • Deposición Térmica lotes Pequeños.
  • Deposición Térmica lotes Grandes.
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Deposición de Capas Atómicas 

Los químicos han sintetizado nuevos e interesantes precursores para ADL y han creado un gran número de materiales para deposicion atómica de capas como recubrimiemtos con propiedades mejoradas para metales, semiconductores, aislantes, óxidos, nitruros, dielectrico, magnetico y recubrimiento refractivos.

Los sistemas ALD de Veeco CNT ofrecen precisión extrema y uniformidad en las capas a escala atómica a un amplio rango de industrias  como la energética, óptica, de electrónicos, nanoestructuras y biomédica entre otras.

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